积层箔
东阳光与日本东洋铝业合作开发的新型粉末积层箔项目为全球首创,是对传统腐蚀工艺的绿色高端替代,可形成更高容量、高强度的化成箔产品,广泛应用于新能源、5G、汽车电子、变频器等工业和特种领域。经过多年的技术攻关,东阳光拥有全球独家专利和全球唯一积层箔工厂。

                              

         腐蚀箔截面结构                         积层箔截面照片                                         腐蚀箔表面结构                           积层箔表面照片


积层箔是新一代电极箔,是对腐蚀箔的绿色高端替代,是铝电解电容器小型化的最佳选择。

腐蚀箔(传统减材制造工艺):用于制造传统化成箔,由光箔经电化学腐蚀扩面后阳极化成形成,呈隧道孔状,增加比表面积,传统化成箔的比容已经接近天花板。

积层箔(新型增材制造工艺):用于制造积层化成箔,在铝箔基材上叠层铝粉烧结体,代替传统的刻蚀处理,呈现铝粉堆积,界面融合的特点。



产品优势


高容量:相同厚度规格(135um)下,容量提升20%以上;相同电压下,容量提升40%以上。

偏差小:积层箔孔洞结构简单,容量偏差小;氧化膜的生长均匀,产品一致性好。

生产成本低:腐蚀箔生产过程中有35%的高纯铝被腐蚀变成废渣,生产相同容量化成箔,积层箔少用高纯铝40%以上,且无环保处理费用,长远看,积层箔生产成本远低于腐蚀箔。

环境友好:积层箔生 产过程不使用酸碱,无三废产生。

电容器:可缩小尺寸,可靠性高,提高电压,提高温度,延长使用寿命。



参数对比


箔种类化成规格厚度(um)R1.0(回)R3.5(回)化成容量(uF/cm2)提升幅度(%)
腐蚀化成箔135HB21-650Vf134861890.623基准
积层化成箔135CB28-650Vf134932170.75120.50%
积层化成箔155CB36-650Vf157721910.90244.70%